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温枢文彪（c）CuNW上的h-BN壳的封装。作者采用低压化学气相沉积法，见亿在Cu-NWs网络侧壁上外延生长少量原子层的六方氮化硼（h-BN）保护层，见亿使其在高温（真空900℃）、高湿度（95%RH）和强碱/强酸/氧化剂溶液（NaOH/H2O2）下皆可获得极高的稳定性。

利资图三（a）不同T2温度下Cu@h-BNNWs网络的SEM图像。 图四（a~c）a）无，源王b）有和c）NH3流的Cu@h-BNNWs的XPS谱。（d~f）分别为单个Cu@h-BNNW的Cu（蓝色）、中国B（红色）和N（黄色）的EDS元素映射图像及其TEM图像。

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为气相沉积制备高质量2dh-BN壳层，利资作者设计了一种磁控铜膜技术和B/N前驱体快速供给方案。

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